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专利名称：一种真空灭弧室专利类型：实用新型专利发明人：肖红,冉隆科,刘继君,陈进申请号：CN201420745115.9申请日：20141203公开号：CN204215957U公开日：20150318
摘要：本实用新型公开了一种真空灭弧室，包括静端均压罩，所述静端封接环设于静导电杆的底部，端部过渡环设于静端封接环和瓷壳之间，静端均压罩设于静端封接环上部的静导电杆上，触头组件设于静导电杆的上部，所述静导电杆、静端封接环、端部过渡环、静端均压罩以及触头组件的静触头构成静触头组件；屏蔽筒设置于中间封接环上，瓷壳、中间封接环和屏蔽筒组成瓷壳套件；动端封接环设于动导电杆的外围，端部过渡环设于动端封接环和瓷壳之间，动导电杆、动端封接环、端部过渡环、触头组件的动触头、波纹管和保护罩形成动触头组件。本真空灭弧室提升了产品的耐压水平，减少了物料使用量和拥有更小的回路电阻。
申请人：成都凯赛尔电子有限公司
地址：610000 四川省成都市新都区工业东区黄鹤路99号
国籍：CN
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