精密光学元件的超声清洗方法

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201610963031.6 （22）申请日 2016.11.04

（71）申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所

地址 201800 上海市嘉定区上海市800-211邮政信箱

（10）申请公布号 CN106378334A

（43）申请公布日 2017.02.08

（72）发明人 王建国;朱美萍;孙建;易葵;邵建达 （74）专利代理机构 上海新天专利代理有限公司

代理人 张泽纯

（51）Int.CI

B08B3/10; B08B3/12; B08B3/02; B08B3/08;

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

精密光学元件的超声清洗方法

（57）摘要

一种精密光学元件的超声清洗方法，所述

工艺依次包括去离子水喷淋、去离子水超声清洗、去离子水喷淋、去离子水漂洗、切水、烘干工艺，所述的去离子水超声清洗是在

40KHz‑270KHz中选择多个不同频率的超声清洗3‑5

分钟，清洗温度为50‑60°；清洗时超声时间3‑5min，温度为50‑60°。本发明采用多频段超声加温清洗，利用不同频率的超声波所能清洗的最有效颗粒的对应关系，全面去除光学精密元件表面残留的污染物，提高了元件表面的清洁度，增强了光学元件的抗激光损伤等应用能力。

法律状态

法律状态公告日2017-02-08 2017-02-08 2017-03-08 2017-03-08 2019-07-16

法律状态信息

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效

发明专利申请公布后的视为撤回

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实质审查的生效 实质审查的生效

发明专利申请公布后的视为撤回

权利要求说明书

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说明书

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