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专利名称：一种用于阴极弧光放电的屏蔽装置专利类型：实用新型专利发明人：郎文昌,刘俊红,杜昊申请号：CN201822034632.6申请日：20181205公开号：CN209323003U公开日：20190830
摘要：本实用新型提供了一种用于阴极弧光放电的屏蔽装置，涉及电弧离子镀技术领域。其包括：靶材，其表面用于产生弧光放电；屏蔽罩，所述屏蔽罩包括喇叭口和屏蔽罩主体；所述屏蔽罩主体环绕封围设置所述靶材的周边，并与所述靶材具有预定间隙，所述喇叭口与所述屏蔽罩主体连接处设有伸出以覆盖部分所述靶材的靶面的延伸部，所述延伸部与所述靶材的靶面间具有预定间隙；支架，用于将所述屏蔽罩安装至电弧离子镀设备的腔室内，所述屏蔽罩安装于所述支架上。本实用新型提供了一种用于阴极弧光放电的屏蔽装置，以对放电过程中的电子进行屏蔽，有效增加电子的运动行程，提升等离子体浓度，提高电弧离子镀粒子的离化率。
申请人：苏州艾钛科纳米科技有限公司
地址：215010 江苏省苏州市虎丘区浒杨路36号
国籍：CN
代理机构：北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙)
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