专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：用于处理基板的腔室专利类型：实用新型专利发明人：文在权
申请号：CN201820879218.2申请日：20180607公开号：CN208422872U公开日：20190122
摘要：本实用新型涉及一种用于处理基板的腔室，其目的在于提供一种用于处理基板的腔室，其可防止进行了基板处理的药液与药液排出导向件相碰撞后再次飞散，并且诱导药液的排出顺利进行。用于实现所述目的的本实用新型的用于处理基板的腔室包括：药液排出导向件，其设置于支撑基板的同时进行旋转的基板夹头的外侧，诱导药液从所述基板排出，并且设置有用于使得药液排出导向件冷却的冷却装置。
申请人：凯斯科技股份有限公司
地址：韩国京畿道安城市
国籍：KR
代理机构：北京冠和权律师事务所
更多信息请下载全文后查看
